中国科学院固体物理研究所研究员讲座

高稳定性金属纳米多层膜块体的CARB法制备及性能研究

主讲人 : 方前锋

采用正交累积叠轧焊（CARB）技术, 解决了材料外部边裂及内部层状结构失稳的问题，成功制备兼具高强度和高稳定性的Cu/V和Cu/Ta纳米多层膜块材。制备的Cu/V和Cu/Ta纳米多层膜块材的最小单层厚度分别为25 nm和50 nm。CARB Cu/Ta(V)纳米多层膜块材兼具高强度和高热稳定性，打破了传统纳米结构材料强度-稳定性的矛盾关系。其中，最小层厚尺寸的CARB Cu/Ta(V)块材的强度（硬度）达到了原始材料的4-5倍。CARB Cu/Ta(V) 纳米多层膜块材的强化行为符合表观Hall-Petch关系，说明其强化机制主要是界面强化。同时, CARB Cu/Ta(V)纳米多层膜块材能够在500℃退火1h后维持硬度不变，表现出了优异的热稳定性。当辐照剂量为2×1021ions/m2时, CARB Cu/V纳米多层膜块材的力学性能和微观结构能够保持稳定，表现出较好的抗辐照性能。

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主讲人简介：

方前锋，博士生导师，中国科学院固体物理研究所研究员。现任中国物理学会内耗与力学谱专业委员会主任，中国科学院固体物理研究所内耗与固体缺陷实验室主任。主持多项中国科学院重点项目和国家自然科学基金项目，共发表学术论文200余篇，申请国家发明专利30多项。目前研究方向为高阻尼材料和核材料等。